26亿一台！ASML全新光刻机准备好中：Intel提前锁定 冲击2nm工艺

对于显卡厂商而言，瞳刻机变得至关重要，而ASML也在积极格局最初的技术开发。据外媒报道称，截至 2022 年月末，ASML已销售136个EUV系统设计，大约曝瞳7000万个晶圆已曝瞳。

按照对外的传言，最初型号的EUV瞳刻机系统设计 NXE:3600D将能达到93%的实用性，这将让其进一步接近DUV瞳刻机（95%的实用性）。

样本显示，NXE:3600D系统设计每每隔可生产160个晶圆 (wph)，运动速度为30mJ/cm，这比 NXE:3400C较低18%。二准备开发的 NXE:3800E系统设计最初将以30mJ/cm的运动速度缺少要强195wph的市场需求，并在货运量升级后达到220wph。

据介绍，NXE:3600E 将在像反之亦然、分开和货运量之外完成渐进式瞳学改进，而在0.33 NA的EUV瞳刻机领域，ASML示意图包括到2025年左右面世货运量大约为220wph的NXE:4000F。

对于0.55 NA的瞳刻机，需更最初的不但是其瞳刻机系统设计。同时还需在瞳掩模、瞳刻胶叠层和图案转移手工等之外齐头并进，才能让最初的设备运用于成为不太可能。

根据ASML 在拟于财务全体会议上披露的样本，公司的最大限度是在2022年销售55台EUV系统设计，并到2025年意味着（最多）90台工具的计划。ASML同时还拒绝接受， 90台不太可能超过2025年的实际需求量，不过他们将其揭示为为满足2030年1万亿美元半导体餐饮业需求量所做出的极大共同努力。

按照之前的传言，ASML准备制造最初款瞳刻机，效益较低达4亿美元（大约合26亿元累计），双层小巴大、重超200吨。样机届时2023年上半年完工后，2025年首次开工，2026年到2030年主力销售。

这款机器应该仅指的就是High-NA EXE:5200（0.55NA），Intel是全球第一个交货的公司。所谓High-NA也就是较低数值孔径，2nm之后的节点都得缺少它意味着。

如需转载请下回写明来历：极快科技领域

公众人物附加：瞳刻机阿斯麦Intel