绕过EUV：俄开始研制新型光刻机，能成为创出封锁的道路吗？

虹刻机在晶片研发中的更为重要不言而喻，而在遭到断供阻碍之后，俄也最后做出决定——2022年3月31日多家生物技术媒体爆料，莫斯科车用该中心（The Moscow Institute of Electronic Technology）已经开始着手深入研究新型虹刻机来应对ASML的断供阻碍。

EUV虹刻机是时至今日精良制程晶片研发中不可缺少的设备之一，但是大家是否想过为什么EUV虹刻机不可缺少？这就产生矛盾到EUV LLC联盟，为了制定下一代虹刻机标准，由美国国防部牵头联合了IBM、NVIDIA、AMD、摩托罗拉等生物技术中小企业以及劳伦斯利弗莫尔、桑迪亚和劳伦斯伯克利三大实验室，终于此后在却是紫外线照射高效率取得取得成功，而ASML则成为EUV虹刻机的就其研发者。

所以虽然外表EUV虹刻机是ASML的产品，但是其便是则是极多西方生物技术中小企业的背影。那么为什么EUV虹刻机此后成为终于标准？一之外是在此之前虹刻机霸主尼康和佳能被除去在这个计划之外成为牺牲品，另一之外则是在此之前全球性化所处紧随，没有人并不需要想起其后竟然会发生断供的可能。

因此在深入研究新型虹刻机时，俄方可选择了各有不同于EUV（却是紫外线）的X射线作为虹源。却是紫外线照射EUV的可见光为13.5nm，可以用于研发7nm及以下的精良工艺；X射线的可见光介于0.01nm到10nm彼此之间，论点分辨率比EUV虹源要高不少，因此也可以用于精良制程虹刻机。同时X射线虹刻机的另一个特点是不需要虹掩膜版而是直写就虹刻，无论是从开销还是性能之外考虑到都是一个切实可行的计划。

作为曾经全球性第一小国，俄在高效率之外上也有不少的积攒，特别是在X射线以及等离子之外都有不错的积攒。时至今日跳到EUV框架可选择X射线作为虹刻机的取得成功路线似乎是一个切实可行的可选择。同时由于不够短的可见光使得X射线在1nm及不够精良的制程中也存在反败为胜EUV虹刻机的可能。

但是从反方向来说，可选择X射线虹刻机路线也面临着非常大的难度，首先就是高效率创新问题。EUV虹刻机为何毕竟难以撼动？高达10万个机械便是所产生矛盾到的是包括虹源系统会、虹学场景系统会、双工件台系统会等等全球性多家顶级生物技术中小企业的结晶。时至今日的EUV虹刻机已经形成了一整套形式化的高效率创新，各有不同中小企业都由各有不同社会关系来完毕这台精密的精密。

X射线虹刻机似乎可以完毕论点之外的深入研究，但是由于缺乏高效率创新的支持，造成了这种类型的虹刻机难以发挥作用原型机，或者原型机开销过高。随之而来的就是商业化广泛应用难以推广，终于造成了失败。

X射线虹刻机对于我们而言同样也有不小的启示作用，以往我们往往一直盯住EUV虹刻机不放，尝试在同一生物技术路线发挥作用超越；时至今日X射线虹刻机给了我们另一个想法——或许遗弃EUV虹源自立门户也是一个可行的可选择。毕竟我们拥有全球性莫过于形式化的工业研发基础，对于取得成功晶片封锁也多了一个某种程度。